金靶材，溅射金靶材供应，金靶材厂家，高纯度金靶材
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更新时间：2019-03-12 14:17:01 信息编号：122448337

￥320

≥ 100克

价格：
320.00 元
产地：
北京
品牌：
国产
关键词：
金靶材,金靶,靶材

吴英民

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详情介绍

金靶材，溅射金靶材供应，金靶材厂家，高纯度金靶材

产品别名	金靶材,金靶,靶材	面向地区	北京	产地	北京
品牌	国产	品名	其它	种类	其它
牌号	TA2	执行标准	国标

名称：金靶材
英文名称：Gold Target
基本参数：密度19.32g/cm3 色泽：金黄色，黄色，亮黄
熔点1064.2℃ 沸点2808℃
质地坚韧、有延展性、顺磁性

金靶材物理性质

金靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高或经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高材料。
金靶材用途：
适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等。由于金具有的稳定性和良好的导电性、导热性能，因此使金在电子工业上的用途越来越广泛。宇航技术的发展，要求稳定程度很高的无线电电子元件愈来愈多，如真空管的涂料、特种用途的电力接头、特种精密电子仪器中用的拉丝导线、电镀金的高频导体以及高温焊接用金合金，在计算机、收音机、电视机、收录机等方面用的涂金集成电路等。金在电子工业上的用量占工业用金的90%以上，而且用量年年增长。
金靶材的分类：溅射用金靶材和蒸发用金靶材。
溅射金靶材又有平面金靶材和旋转金靶材之分。
平面金靶材是片状的，有圆形、方形等。
旋转金靶材是管状的，利用，但不易加工，要通过高挤压、拉伸、校直、热处理，机加工等多种加工工序才能终制得金旋转靶材成品。
目前市场上金靶材的概况：
靶材名称金靶材
常用纯度 99.95%（3N5) 99.99%(4N） 99.999%（5N)
常用尺寸直径50.8*5mm 、直径101.6*5 等
高靶材原料的制备
金靶材原料提纯的目的就是除去杂质以提高金的纯度，获得符合各种不同要求的金靶材产品，以满足市场交易的要求。常用的金靶材原料提纯的工艺有熔融氯化法、电解精炼法、化学溶解沉淀法和溶剂萃取法等。
金靶材黄金原料杂质标准
4N和5N金的杂质含量标准
指标名称含金量/% 杂质含量ppm
Fe Al Pb Zn Sn Mg Cu Mn
4N 99.99 5 5 1 5 1 5 1 1
5N 99.999 1 0.5 0.1 0.5 0.1 0.5 0.1 0.1
Cr Ni Ca Co Bi Cd
4N 99.99 1 1 5 1 1 1
5N 99.999 0.1 0..1 0.1 0.1 0.1 0.1
1、有了高纯度金锭作为原材料，对原材料进行锻造、轧制、热处理等，使金锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需金靶材的要求。
2、对变形处理后的高材料进行机械加工，金靶材加工要求精度高、表面质量高，加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了，金靶材与镀膜机通过机械结构相连接。

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