PVD溅射高纯镍合金镍钒溅射镀膜靶材93:7wt%,蒸发镀膜颗粒材料镍钒合金旋转靶材

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高纯镍合金镍钒溅射镀膜靶材93:7 wt%,蒸发镀膜颗粒材料，镍钒合金旋转靶材
英文名称：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7%
专注于生产具有高密度和小平均晶粒尺寸的高纯度镍钒溅射靶，用于半导体，化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）显示器和光学应用。我们用于薄膜的标准溅射靶可以采用整体式或粘接式，具有平面靶材尺寸和高达820 mm的配置，带有钻孔位置和螺纹，斜角，凹槽和背衬，适用于较旧的溅射设备以及新的工艺设备，例如用于太阳能或燃料电池的大面积涂层和倒装芯片应用。还生产研究尺寸的靶材以及定制尺寸和合金。使用佳演示技术分析所有靶材，包括X射线荧光（XRF），辉光放电质谱（GDMS）和电感耦合等离子体（ICP）。“溅射”允许纯度溅射金属或氧化物的薄膜沉积通过离子轰击控制去除目标材料并将其转化为定向气相/等离子体相，将材料加到另一个固体基质上。除了几乎任何尺寸的矩形，环形或椭圆形靶材外，我们还可以提供此范围之外的靶材。使用结晶，固态和其他纯化方法（例如升华）生产材料。江苏苏州南京公司为商业和研究应用以及新的专有技术生产定制组合物。还将任何稀土金属和大多数其他材料铸造成棒状，棒状或板状，以及其他加工形状。我们还生产镍棒，粉末和圆片。其他形状可根据要求提供。公司生产的常见靶材如下：

种类 分类 主要靶材
稀贵金属靶材 半导体材料 Au、Pt、Ir、Ru、Pd、Os、Re、Rh Targets
陶瓷靶材 透明导电材料 AZO、ATO、GZO、MGZO、ZnO、ZTO、IZO、IGZO、ITO、BZO
陶瓷材料 Nb2Ox、TiOx、SiO2、CdS、Al2O3、SnO2、MgF2、MgO、ZnS
合金靶材 铝合金 AlTi、AlCu
铜合金 CuGa、CuIn、CuInGa、CuNi、CuZn
镍合金 NiCr、NiV、NiCu
锌合金 ZnSn、ZnAl
其他合金 SiAl、InSn、Ag-alloy、Ti-alloy、Cr-alloy、MoNb
旋转靶材 复合材料 AZO、Nb2Ox、TiOx、SiAl、ZnSn、ZnAl、TiAl
单质材料 Si、Cr、Al、Mo、Nb、Sn、Zn、SS、Cu、Ag、Ti
金属靶材 平面靶 Si、Al、Cr、Mo、 In、Ti、Nb、Zn、SS、Sn、Ni、Ag、Ta、Se
蒸镀材料 颗粒 ITO slug、Al slug、Ti slug、Ni slug、Cr slug

应用产业＆产品
光碟, 磁纪录:CD,DVD / HD
低辐射: L/E Glass
光电元件:发光二极体
平面显示器: TFT, CSTN, OLED
半导体: 半导体封装
太阳能光电: 太阳能电池
焊合服务: 焊合代工
其他: 被动元件
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