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研创新材氮化硅靶材氮化硅颗粒氮化硅粉末

更新时间:2024-04-25 08:48:07 信息编号:b013u7fcc28454
研创新材氮化硅靶材氮化硅颗粒氮化硅粉末
8501-2件
8003-4件
750≥ 5件
  • 850.00 元

  • 山东

  • 颗粒 粉末 圆片靶材 圆片压片

  • 氮化硅靶材,氮化硅颗粒,氮化硅粉末,高纯氮化硅

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详情介绍

产品别名
氮化硅靶材,氮化硅颗粒,氮化硅粉末,高纯氮化硅
面向地区
全国
产地
山东
规格
颗粒 粉末 圆片靶材 圆片压片
目数
400目
品名
研创新材氮化硅

研创新材氮化硅靶材氮化硅颗粒氮化硅粉末

氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损,为原子晶体;高温时抗氧化。而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、性模具等机械构件。如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面,不仅可以提高柴油机质量,节省燃料,而且能够提高热效率。
临沂研创新材料科技有限公司生产的氮化硅陶瓷制品的生产方法有两种,即反应烧结法和热压烧结法。反应烧结法是将硅粉或硅粉与氮化硅粉的混合料按一般陶瓷制品生产方法成型。然后在氮化炉内,在1150~1200℃预氮化,获得一定强度后,可在机床上进行机械加工,接着在1350~1450℃进一步氮化18~36h,直到全部变为氮化硅为止。这样制得的产品尺寸,体积稳定。热压烧结法则是将氮化硅粉与少量添加剂(如MgO、Al2O3、MgF2、AlF3或Fe2O3等),在19.6MPa以上的压力和1600~1700℃条件下压热成型烧结。通常热压烧结法制得的产品比反应烧结制得的产品密度高,性能好。

名 称:氮化硅 纯 度:3N、4N
化学式:Si3N4 熔点:1900°C
原子量:140.28
产品规格 状态 纯度 规格 包装
氮化硅 靶材 3N Φ50.8mm、Φ76.2mm、Φ101.6mm
氮化硅 颗粒 4N 1-3mm 100g、500g、1kg
氮化硅 粉末 3N 3μm;10μm 100g、500g、1kg
产品优点 纯度保障,晶粒度小,致密度高
联系电话:刘军同号
研创新材陶瓷靶:
氧化铜靶、氧化亚铜靶、氧化铝靶,氮化铝靶、氧化镁靶、氧化镍靶、二氧化钛靶、五氧化三钛靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铬靶、氧化锰靶、三氧化二铁靶、三氧化二钴靶、氧化铜靶、氧化锌靶、氧化锆靶、三氧化二铌靶、五氧化二铌靶、二氧化钼靶、二氧化锡靶、氧化铪靶、氧化钨靶、氧化钇靶、氧化锌铝靶、氧化铟锡靶、氧化铒靶、氧化钕靶、氧化钪靶、氟化钡靶、氟化钙靶、氟化铈靶、氟化钾靶、氟化镧靶、氟化镁靶、氟化钠靶、钛酸钡靶、钛酸锶靶、硫化锌靶、氮化硅靶、氮化钛靶、氮化铝靶、氮化硼靶、碳化硅靶、铁酸铋靶、硒化镉靶、硫化镉靶、铌酸锂靶、铝酸镧靶、钛锆酸铅靶、镍酸钐靶、镍酸钕靶、锑化锌靶
研创新材单质靶:
高纯铝靶、高纯钛靶、高纯镁靶、高纯硅靶、高纯钒靶、高纯铬靶、高纯锰靶、高纯铁靶、高纯钴靶、高纯镍靶、高纯铜靶、高纯锌靶、高纯锗靶、高纯硒靶、高纯钇靶、高纯铷靶、高纯锶靶、高纯锆靶、高纯铌靶、高纯钼靶、高纯锝靶、高纯铟靶、高纯锡靶、高纯锑靶、高纯碲靶、高纯铯靶、高纯铪靶、高纯钽靶、高纯钨靶、高纯铼靶、高纯铋靶、高纯铈靶、高纯镧靶、高纯钕靶、高纯镝靶、高纯铽靶、高纯铥靶、高纯镱靶

临沂研创新材料科技有限公司 6年

  • 高纯溅射靶材,蒸发镀膜熔炼添加原料,高熵合金锭,高熵合金粉末
  • 临沂市兰山区银雀山路与宏大路交汇西150米路南沿街

———— 认证资质 ————

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