研创新材二氧化铪靶材氧化铪颗粒氧化铪粉末

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研创新材二氧化铪靶材氧化铪颗粒氧化铪粉末

元素含量比重:O (oxygen) 15.2% 、Hf (hafnium) 84.8%
二氧化铪 分子结构
密度:9.68g/cm3
熔点:2758℃
摩尔质量:210.49 g/mo
蒸发压力:在2678℃时1Pa;在2875℃时10Pa
线膨胀系数:5.6×10-6/K
溶解度:不溶解于水
纯度:99.99
薄膜特性:透光范围~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15 (500nm)~2
蒸发条件:用电子枪，氧分压~1~2×10-2Pa。蒸发温度~2600~2800℃，基片温度~250℃，蒸发速率2nm/s
应用领域:UV增透膜，干涉膜
名 称：二氧化铪 熔 点：2812℃
符 号：HfO2 CAS 号： 12055-23-1
原子量：210.49 密 度：9.68g/cm3
纯 度：4N
产品规格 状态 纯度 尺寸
颗粒（黑色） 4N 1-3mm或压片状 100g，500g，1kg

颗粒（白色） 4N 1-3mm或压片状 100g，500g，1kg

粉末 4N 200目 100g、250g、1kg

靶材 4N（进口料） Φ50.8、Φ76.2、Φ101.6 片
产品优点 蒸发压力：在2678℃时1Pa；在2875℃时10Pa
线膨胀系数：5.6×10-6/K
溶解度：不溶解于水
薄膜特性：透光范围～220～12000nm；折射率（250nm）～2.15 （500nm）～2
蒸发条件：用电子枪，氧分压～1～2×10-2Pa。蒸发温度～2600～2800℃，基片温度～250℃，蒸发速率2nm/s
应用领域:UV增透膜，干涉膜
产品用途 磁控溅射镀膜材料等
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票
产品包装 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
制作工艺 化学精炼法，电解精炼法，萃取精炼法等
适用仪器 各类型号磁控溅射设备
交货期 单片材料1周内发货，批量材料7—10个工作日内发货
临沂研创新材料科技有限公司长期生产销售单质金属溅射 陶瓷合金 贵金属 稀土以及各种复合靶材 研创新材生产的靶材 纯度高 致密度好 研创新材可提供靶材及背板绑定服务

临沂研创新材料科技有限公司 联系人：刘先生同号 ：3038763982

研创新材高密度陶瓷靶材部分产品如下：
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。